芝浦机电：第5代以后低温多晶硅TFT液晶生产线清洗装置

2011-11-2 12:12| 发布者: apple| 查看: 483| 评论: 0|原作者: apple|来自: 技术在线

摘要: 芝浦机电在FPD International2011”（10月26～28日，太平洋横滨会展中心）上，以展板形式展出了使用氢氟酸（HF）浓度管理单元的低温多晶硅TFT液晶面板晶圆清洗装置。支持第5代以上的大尺寸基板。在晶圆清 ...

芝浦机电在FPD International2011”（10月26～28日，太平洋横滨会展中心）上，以展板形式展出了使用氢氟酸（HF）浓度管理单元的低温多晶硅TFT液晶面板晶圆清洗装置。支持第5代以上的大尺寸基板。

在晶圆清洗工艺中，第4.5代以前一直采用旋转式清洗装置。但第5代以后由于玻璃基板越来越难以转动，因此采用了使用喷头的一列式（In-Line）清洗装置。旋转式清洗装置通过旋转使清洗液高效扩散到基板上，而一列式清洗装置无法获得这种效果。因此，改成一列式之后，药液用量骤增，超出了基板尺寸的增大比例。因此，第5代工艺以后越来越多地需要重新利用第4.5代以前已经不再使用的药液。芝浦机电推出了测量再利用时的药液浓度，以过滤杂质和补充药液的HF浓度管理单元。另外，该公司还提出了触摸面板等喷涂装置的新用途。